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LASER DIRECT WRITER
Micro patterning for device fabrication
UV 레이저 (405 nm) 빔과 50x 내지 100x 대물렌즈를 이용하여 마이크로 패턴을 직접 그리는 photolithography 장비
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hardware: XYZ motorized micro-stage와 광학 현미경
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image writing software: 패턴이 그려진 흑백 이미지 화일을 불러들여 패턴을 따라 이동하는 최단 경로를 파악하여 writing
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vector line drawing: 사용자가 기판의 현미경 이미지를 보면서 마우스로 직접 선을 그리면, 스캐너가 이 선들을 따라서 패턴을 그림.
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maximum writing speed: 700 um/sec
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minimum spot size: 1 um
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2 writing modes: area filling with low resolution + line drawing with high resolution
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Photoresist: 일반 광리소그래피용 PR
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Applications: solar cell electrodes, big electrodes in micro-device, contact pad for device, microfluidics device, lab-on-a-chip
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Image pixels: 1000 x 1000
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sample stage tilt correction
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Price: ~$23,000
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