Laser Writer (Micro Pattern) + E-Beam Lithography (Nano Pattern) 

Maskless Photolithography 장비

Circular Mode: CAD Pattern (DXF 형식), 5개 Layer (다른 Dose량) 

Vector Mode: 선그리기 (마우스 이용)

광원: UV 레이저 (405 nm) 

대물렌즈: 50x 내지 100x 대물렌즈

Hardware: XYZ Motorized Micro-Stage와 광학 현미경

Image Writing Software:  패턴이 그려진 흑백 이미지 화일을 불러들여 패턴을 따라 이동하는 최단 경로를 파악하여 writing

Vector Line Drawing: 사용자가 기판의 현미경 이미지를 보면서 마우스로 직접 선을 그리면, 스캐너가 이 선들을 따라서 패턴을 그림.

Maximum Writing Speed: 700 um/sec

Minimum Spot Size: 1 um

2 Writing Modes: Area filling with low resolution + Line drawing with high resolution

Photoresist: 일반 광리소그래피용 PR

Applications: Solar Cell Electrodes, Big Electrodes in Micro-Device, Contact Pad for Device, Microfluidics Device, Lab-On-A-Chip

Image Pixels: 1000 x 1000

Sample Stage Tilt Correction 

Price: ~$23,000​